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半导体行业
清洗对象:半导体器件(magazines)
清洗流程:溶剂清洗→纯水漂洗→溶剂热清洗→溶剂热清洗→纯水漂洗→热纯水漂洗→热风循环烘干(水基清洗剂)
典型用户:安世半导体(中国)有限公司、Nexperia Malaysia
  • 详细参数
  • 一、设备型号:AERO 940

    二、设备名称:超声波清洗机

    三、清洗对象:magazines(电子晶片、微型电子线路板)

    四、清洗方式:将原子粒浸泡到一个装有清洗剂的容器中,这个容器同时安装有超声波装置,对原子粒进行超声波震动清洗。

    五、清洗原理:利用超声波震动方式去除原子粒表面的助焊剂及灰尘。

    六、设备用途:

    本设备为专用设备,主要用于电子封装及半导体行业器件的去除助焊剂,灰尘的清洗及干燥。

    七、设备参数:

    1、  设备净尺寸:L3500×W1600×H2100mm

    2、  设备重量:1200KG

    3、  加工材质:SUS316304不锈钢材料;

    4、  设备具备的功能:

    41  超声波清洗功能

    42  压缩空气吹干功能

    43  介质循环过滤功能。

    44  物料自动输送功能

    45  消防防护功能

    5、  设备用电量:AC38V5KW

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